Aston是半導體生產(chǎn)計量領(lǐng)域中的一次重大演變，實(shí)現了原位分子過(guò)程控制，使現有工廠(chǎng)運行更高效，并可推動(dòng)產(chǎn)出提升。Aston專(zhuān)為半導體生產(chǎn)而設計，它作為一個(gè)強大的平臺，可以取代多種傳統工具，并在一系列全面應用中提供前所未有的控制水平，包括光刻、電介質(zhì)和導電蝕刻及沉積、腔室清潔、腔室匹配和消解。

 

“通過(guò)Aston，某些應用中的單位工藝吞吐量可以提升40%以上，這是一個(gè)很大的改進(jìn)。“對于一家典型的晶圓廠(chǎng)來(lái)說(shuō)，即使整體產(chǎn)能提高1%，每年的產(chǎn)量也能增加價(jià)值數千萬(wàn)美元。”Atonarp公司首席執行官、首席技術(shù)官和創(chuàng )始人Prakash Murthy說(shuō)，“在現有生產(chǎn)工藝工具上加裝Aston，可在短短6到8周內實(shí)現更高產(chǎn)量，而安裝新的生產(chǎn)設備則需要長(cháng)達一年的時(shí)間。這將從本質(zhì)上幫助制造商提高其生產(chǎn)水平，并有助于解決目前半導體晶圓廠(chǎng)產(chǎn)能不足的問(wèn)題。”

 

快速、可操作的端點(diǎn)檢測（EPD）是運行半導體工具和晶圓廠(chǎng)的最有效方式。到目前為止，許多工藝步驟都無(wú)法部署EPD，因為所需的原位傳感器不能經(jīng)受住苛刻的工藝或腔室清潔化學(xué)品的影響，或者會(huì )因冷凝水沉積而出現堵塞。因此晶圓廠(chǎng)不得不設定特定時(shí)間，以確保過(guò)程徹底執行完畢。相反，Aston通過(guò)準確檢測一個(gè)過(guò)程何時(shí)結束來(lái)優(yōu)化生產(chǎn)，包括腔室清潔，這可將所需的清潔時(shí)間減少80%。

 

Aston對腐蝕性氣體和氣態(tài)污染物冷凝物具有抵抗力。它比現有解決方案更堅固，具有獨立的雙電離源（一個(gè)經(jīng)典的電子沖擊電離源，和一個(gè)無(wú)燈絲等離子體電離器），因此可在半導體生產(chǎn)中出現的惡劣條件下可靠運行。這使Aston能夠原位，即在傳統電子電離器會(huì )迅速腐蝕和失效的苛刻環(huán)境中使用。

 

與傳統質(zhì)量分析儀相比，Aston的服務(wù)間隔時(shí)間延長(cháng)了100倍。它擁有自清潔能力，可以清除某些過(guò)程中產(chǎn)生的冷凝物沉積。

 

由于A(yíng)ston能夠自主產(chǎn)生等離子體，無(wú)論是否存在過(guò)程等離子體，均可正常運行。這與光學(xué)發(fā)射光譜測量技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)勢，后者需要等離子體源方可操作，這使Aston成為ALD和某些金屬沉積工藝的理想選擇，這些工藝可能會(huì )需要使用較弱的、脈沖等離子體，或無(wú)需等離子體進(jìn)行處理。

 

Aston還能夠通過(guò)提供量化、可操作的實(shí)時(shí)數據來(lái)提高過(guò)程一致性，并可通過(guò)人工智能推進(jìn)高性能機器學(xué)習，滿(mǎn)足最苛刻的過(guò)程應用。除此之外，得益于實(shí)時(shí)數據統計分析和腔室管理的高精確度、靈敏度和可重復性，生產(chǎn)線(xiàn)和產(chǎn)品產(chǎn)量也得到了提高。

 

Aston主要針對化學(xué)氣相沉積（CVD）和蝕刻應用，這兩種應用的年增長(cháng)率均超過(guò)13%。該光譜儀既可在新腔室組裝時(shí)安裝在其中，也能夠加裝在已經(jīng)運行的現有腔室中。

 

Aston還可與韓國ATI公司開(kāi)發(fā)的智能壓力控制器Psi組合使用。在經(jīng)歷了為期數月的全面技術(shù)可行性評估后，這一組合解決方案最近出售給三星公司，用于一個(gè)先進(jìn)的過(guò)程控制應用。

 

Aston已可直接于A(yíng)tonarp，或通過(guò)Atonarp的全球合作伙伴網(wǎng)絡(luò )進(jìn)行評估和訂購。

 

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